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平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

簡要描述:平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

  • 產品品牌:其他品牌
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2023-01-04
  • 訪  問  量:1086

詳細介紹

品牌其他品牌價格區間面議
組件類別其他應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)


平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光潔度:

60-400

尺寸誤cha:

±0.5 mm

厚度公cha:

±0.5mm

效率:

60%~80% @閃耀波長

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2(CW)連續激光



產品編號

產品名稱

尺寸

刻線數

閃耀波長

閃耀角

378521

刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378522

刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

500nm

4°18

378523

刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378531

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378532

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378543

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378544

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378545

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378546

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378547

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378554

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

250nm

8°37

378555

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378556

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378565

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378566

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378567

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378568

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'



制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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